Weerstandlassen met transistorgestuurde gelijkstroombronnen

Manufacturing
Mikroniek 6-1988 by L. schuringa 27 April 2006

Hoewel het gebruik van de gecontroleerde pulsinbreng door middel van transistorgestuurde gelijkstroombronnen nog niet terdege onderzocht is opent deze techniek nieuwe mogelijkheden. Naast de interne pulsregeling is het ook mogelijk de gelijkstroombron door middel van een extern signaal te bedienen. Door nu dit signaal te combineren met een direct signaal afkomstig uit het lasgebeuren gaat real-time control tot de mogelijkheden behoren. Van belang is wel dat voor een dergelijke mogelijkheid de juiste lasparameters geselecteerd worden. Niet alleen de elektrische lasparameters geselecteerd worden. Niet alleen de elektrische parameters kunnen van belang zijn, maar ook de mechanische moeten daarin betrokken worden. Bij het microlassen heeft deze gecontroleerde pulsinbreng al duidelijk haar sporen verdiend. Hoewel de aanschafkosten voor dergelijke apparatuur hoger liggen dan van conventionele staan hier o.a. tegenover: - een betere kwaliteitsbeheersing. - een gegarandeerde procesinstelling, - een meer beheerste elektrodeslijtage, - en een betrouwbaardere pulsinformatie.


References

QUADRA: metrology for the ongoing…

The semiconductor roadmap is currently fuelled by innovations along three trends

Read more
Damping position-dependent parasitic vibrations

Parasitic resonances are often limiting the performance of precision machinery.

Read more
Reducing noise and vibrations

Acoustics play a critical role in product development across various engineering domains, significantly impacting both functionality and user experience.

Read more