Nieuwe toepassingen van het laserplasma in de rontgenlithografie
De voortdurende verbeteringen van de prestaties van geintegreerde schakelingen is sedert de ontdekking ervan in de jaren vijftig sterk afhankelijk geweest van de technologieen om steeds kleinere structuren te vervaardigen op een siliciumsubstraat. Tot dus ver heeft vooral de optische lithografie voorzien in de vervaardiging van kleine structuren met een inmiddels geperfectioneerde techniek waarbij stucturen benden de halve micron op ernstige moeilijkheden stuiten. Rontgenlithografie daarentegen, biedt de mogelijkheid om structuren tot op 0,1 micron af te beelden en heeft al bij veel grotere structuren belangrijke voordelen bij het afbeeldingsproces.