Nieuwe toepassingen van het laserplasma in de rontgenlithografie

Manufacturing Micro system technology MEMS/NEMS Optics
Mikroniek 2-1990 by F.Bijkerk 27 April 2006

De voortdurende verbeteringen van de prestaties van geintegreerde schakelingen is sedert de ontdekking ervan in de jaren vijftig sterk afhankelijk geweest van de technologieen om steeds kleinere structuren te vervaardigen op een siliciumsubstraat. Tot dus ver heeft vooral de optische lithografie voorzien in de vervaardiging van kleine structuren met een inmiddels geperfectioneerde techniek waarbij stucturen benden de halve micron op ernstige moeilijkheden stuiten. Rontgenlithografie daarentegen, biedt de mogelijkheid om structuren tot op 0,1 micron af te beelden en heeft al bij veel grotere structuren belangrijke voordelen bij het afbeeldingsproces.


References

Wim van der Hoek Award…

This year, the jury has received four nominations for students who applied existing or new design principles in their graduation work in an exciting manner.

Read more
Over 350 exhibitors, 6 themes…

The 2024 edition has six central themes: Mechatronic Engineering & Systems, Metrology, Vacuum & Clean, Micro Processing & Motion, Laser & Photonics, and Production for High Precision.

Read more
Nonlinear control takes over?

The ever increasing demands on precision and throughput in semiconductor manufacturing machines challenge today's linear control designs.

Read more