Contactloos meten met behulp van opto-elektronische sensoren en laterale foto-effect detectoren

Micro system technology MEMS/NEMS Precision-technology
Mikroniek 3-2004 by Frank Godschalk, C.S. Kooijman 20 February 2007

De ontwikkelingen richting de nanotechnologie gaan in hoog tempo. Om op nanometerniveau te meten is positionering nodig op submicron niveau. Met behulp van onder andere optische sensoren is dit mogelijk omdat ze in ieder geval contactloos werken. Er zijn kant en klare sensoren te koop, maar zelf bouwen kan ook. De keuze om te meten met PSD’s heeft unieke voordelen ten opzichte van andere middelen. In het nu volgende artikel gaan we dieper in op de opto-electronische sensoren en laterale fotoeffect-detectoren.


References ...

Wim van der Hoek Award celebrates 20th anniversary

The Wim van het Hoek award (also known as the Constructors Award) was introduced in 2006 to mark the 80th birthday of the Dutch doyen of design engineering principles, Wim van der Hoek (1924-2019).

Read more
National Systems Engineering Event Calendar

A single overview of the major Systems Engineering events in the Netherlands

Read more
Knowledge day: “AI & (mechanical) Design”

Learn how AI in Engineering develops at ASML, Sioux and TU/e. On november 5th DSPE organizes a knowledge day to intend to inform the DSPE members about the (im-) possibilities of applying AI in mechanical- and system design

Read more