Contactloos meten met behulp van opto-elektronische sensoren en laterale foto-effect detectoren

Micro system technology MEMS/NEMS Precision-technology
Mikroniek 3-2004 by Frank Godschalk, C.S. Kooijman 20 February 2007

De ontwikkelingen richting de nanotechnologie gaan in hoog tempo. Om op nanometerniveau te meten is positionering nodig op submicron niveau. Met behulp van onder andere optische sensoren is dit mogelijk omdat ze in ieder geval contactloos werken. Er zijn kant en klare sensoren te koop, maar zelf bouwen kan ook. De keuze om te meten met PSD’s heeft unieke voordelen ten opzichte van andere middelen. In het nu volgende artikel gaan we dieper in op de opto-electronische sensoren en laterale fotoeffect-detectoren.


References ...

Knowledge day: “AI & (mechanical) Design”

Learn how AI in Engineering develops at ASML, Sioux and TU/e

Read more
Wim van der Hoek’s Design Principles – Applying and Extending his Legacy

During the 2026 Precision Fair in Den Bosch (NL) on Thursday, November 19, 14:00-16:10h, DSPE will host the “Wim van der Hoek’s Design Principles – Applying and Extending his Legacy” colloquium.

Read more
DSPE Opto-Mechatronics Symposium 2026

The seventh edition of the DSPE Opto-Mechatronics Symposium will take place on 8 October 2026. This year’s theme is ‘The opto-mechatronics of telescopes: from tiny to extremely large’.

Read more