0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel II)

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.