0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel II)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 4, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.


References

May 30 DSPE Knowledge day…

Please be invited to the upcoming DSPE Knowledge Day at Settels Savenije Eindhoven.

Read more
Lunch lecture May hosted by…

Precision in roll -2- roll electronics

Read more
YPN visited Kulicke & Soffa…

The Young Precision Network (YPN) - part of the DSPE community - organises events for young professionals and students. On Thursday February 1st, YPN organised a visit to Kulicke & Soffa in Eindhoven.

Read more