0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel II)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 4, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.

Download Fotonica nr. 4, 1993
Back to overview

References

Professional education program (Microcredentials)

The aim of the DSPE professional education program is to equip professionals with the specialized knowledge, skills, and competencies needed to design and realize innovative (high tech) systems.

Read more
Techcafé met als thema Manufacturability

Dé plek om ongedwongen nieuwe contacten op te doen én onder het genot van een borrel en bitterbal te sparren over tech onderwerpen.

Read more
Marriage of opto-mechatronics and electron…

This year’s DSPE Opto-Mechatronics Symposium attracted some 100 participants from academia and industry, all of whom seized the opportunity for networking, meeting technical peers, and visiting an interesting small-scale exhibition.

Read more