0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel II)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 4, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.

Download Fotonica nr. 4, 1993
Back to overview

References

QUADRA: metrology for the ongoing…

The semiconductor roadmap is currently fuelled by innovations along three trends

Read more
Damping position-dependent parasitic vibrations

Parasitic resonances are often limiting the performance of precision machinery.

Read more
Reducing noise and vibrations

Acoustics play a critical role in product development across various engineering domains, significantly impacting both functionality and user experience.

Read more