0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel II)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 4, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.

Download Fotonica nr. 4, 1993
Back to overview

References

Mikroniek April 2026: Developments in…

The April issue of Mikroniek presents developments in dynamics. The main theme article introduces a bouncing stage concept that can circumvent actuator-force limits in precision positioning.

Read more
Intellectual property for engineers

Engineers working in high-tech solve complex technical problems every day. New algorithms, control strategies, hardware architectures, production methods and software tools are constantly being developed inside engineering teams.

Read more
Analysing the shock resistance of…

Medical devices are often mounted on mobile trolleys and must survive shocks during transport, handling and everyday use, such as the sudden impact when a wheel hits a doorstep – a shocking encounter.

Read more
The next generation of gas-foil…

A high-quality standardised gas foil bearing (GFB) programme for turbomachinery up to 100 kW electrical power is presented.

Read more