0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel I)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 3, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.


References

DSPE appoints Martin van den…

Upon his retirement from ASML, Martin van den Brink was appointed honorary member of DSPE.

Read more
High-velocity innovation

Making crucial design decisions early in the concept phase of a project, may lead to severe cost and time overruns when these decisions are based on assumptions and/or incomplete knowledge.

Read more
Hybrid variable-reluctance actuator technology on-sky

Astronomers use deformable mirrors to improve the image of a telescope by correcting for the optical distortions caused by atmospheric turbulence.

Read more