0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel I)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 3, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.

Download Fotonica nr. 3, 1993
Back to overview

References

Lunch lecture April hosted by…

The title is: How to deal with eddy current dampers:

Read more
Microcredentials: macro-effect for professionals

This month, the first microcredentials have been awarded to the participants who successfully took part 1 of the course ‘Mechatronics System Design’ by Mechatronics Academy in cooperation with their partner High Tech Institute.

Read more
Gas Bearing workshop 2025

For 10 years the Gas Bearing Workshop has been the most specific forum for the gas bearing community in the western world.

Read more