0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel I)

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.

Download Fotonica nr. 3, 1993

Back to overview

We use cookies to improve your experience on our website

References

Order of frictions and stiffnesses…

For lumped systems consisting of different frictions and stiffnesses, there has been confusion in literature about hysteresis curves and virtual play for many decades.

Make it clean

In mid-April, the second edition of the Manufacturing Technology Conference and the fifth edition of the Clean Event were held together, for the first time, at the Koningshof in Veldhoven (NL).

Bringing particles to light

Particle contamination monitoring and cleanliness control are fundamental to micromanufacturing processes across diverse industries to achieve cost-effective production of high-quality and reliable microscale devices and components.