0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel I)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 3, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.

Download Fotonica nr. 3, 1993
Back to overview

References ...

Wim van der Hoek Award celebrates 20th anniversary

The Wim van het Hoek award (also known as the Constructors Award) was introduced in 2006 to mark the 80th birthday of the Dutch doyen of design engineering principles, Wim van der Hoek (1924-2019).

Read more
National Systems Engineering Event Calendar

A single overview of the major Systems Engineering events in the Netherlands

Read more
Knowledge day: “AI & (mechanical) Design”

Learn how AI in Engineering develops at ASML, Sioux and TU/e. On november 5th DSPE organizes a knowledge day to intend to inform the DSPE members about the (im-) possibilities of applying AI in mechanical- and system design

Read more