0.35 micron lithografie met off-axis verlichting (deel I)

Manufacturing Optics Precision-technology
Fotonica nr. 3, 1993 by P. Luehrmann, P. van Oorschot, H. Jasper, S. Stalnaker ; S. Brainard ; L. Karklin 27 April 2006

Optische lithografie blijft de techniek die in hoofdzaak voor VLSI fabrikatie wordt gebruikt. Om de steeds kleiner wordende details af te kunnen beelden worden reductie wafersteppers met toenemende NA gebruikt. Als deze trend zich doorzet krijgen optische steppers de voorkeur voor lijnbreedten van 0.35 micron. Echter toenemende NA leidt tot onacceptabele kleine proces vrijheden. Met name de scherpte-diepte (DOF) wordt de beperkende factor. Daarom worden technieken onderzocht die de scherptediepte niet verminderen maar toch de resolutie verbeteren.

Download Fotonica nr. 3, 1993
Back to overview

References

Leading Platform for Systems Engineering

DSPE is uniquely positioned to serve as a central platform for the systems engineering community. By bringing together professionals, experts, and organizations across disciplines, DSPE fosters collaboration, knowledge sharing, and...

Read more
DSPE Knowledgeday on March 18th…

Cryogenic Solutions: Innovation at Extreme Temperatures. Increasing knowledge of materials and constructions for Cryogenic conditions for the members of the DSPE.

Read more
Café Eureka

on February 5th we will organize a next edition of Café Eureka. Our special guests are Chris Werner and Roger Hamelinck. They are both owner of Entechna BV. The theme of this edition is to find out which company suits…

Read more