Nauwkeurig hoekmeetsysteem voor ultrahoog vacuum

Met name in de oppervlaktefysica is er een toenemende behoefte aan nauwkeurige compatibele hoekmeetsystemen met stappen van een milligraad of kleiner in een ultrahoog vacuum omgeving. Mogelijke toepassingen treft men thans vooral aan bij synchrotronstralingsfaciliteiten, zowel in het rontgendiffractie-onderzoek aan kristaloppervlakken als in de rontgenoptica, waar nauwkeurige hoekmeting van belang is voor het positioneren van rontgen-monochromatoren en spiegels. Een meetsysteem is ontwikkeld voor de uitlezing van de hoekstand van een goniometer in ultrahoog vacuum(UHV). De hoekmeting geschiedt door het fotoelecktisch aftasten van een op de goniometer gemonteerde verdeelschijf.