Het vormgeven van glas met chemische etstechnieken

Door Door de voortgaande miniaturisatie in de elektronische en optische industrie zijn ook voor glas technieken beschikbaar gekomen waarmee dit materiaal op micrometerschaal vormgegeven kan worden. Op dit gebied biedt het etsen van glas -verwijderen van glas middels een chemische reactie- een aantal interessante mogelijkheden. In dit artikel worden drie etstechnieken beschreven: nat-chemisch etsen in fluorwaterstofzuur; plasmaetsen en etsen van fotogevoelig glas. Deze methoden worden toegepast in combinatie met fotolithografische technieken. Verder wordt ingegaan op de resultaten die met deze etstechnieken kunnen worden bereikt qua maatvoering en toleranties. Enkele toepassingen worden nader toegelicht.